Sistema de Uv desenhado especificamente para produções de baixo custo em impressoras de largura estreita (até 25 cm).
Alta eficiência, economia de energia; fonte de 3.6 kw (e-Brick mini)
Entrada monofásica.
Ultra compacto, leve e modular.
Novo sistema refletor, patenteado, de alta eficiência e intensidade de cura UV ("Maxima cura" - XC-Cassete).

Este sistema pode ser adaptado a qualquer equipamento que esteja em uso como Nilpeter, Mark Andy, Comco, MPS, Omet, Gallus, Propheteer, Rotatek, Gidue, Etirama, etc.

www.gewuv.com